CVD氣相沉積爐裝置由反應(yīng)物供應(yīng)系統(tǒng)、氣相反應(yīng)器以及氣流傳送系統(tǒng)所組成。反應(yīng)物多為金屬氯化物，先被加熱到一定溫度，達(dá)到足夠高的蒸汽壓，用載氣送入反應(yīng)器。如果某種金屬不能形成高壓氯化物蒸汽，就代之以有機(jī)金屬化合物。在反應(yīng)器內(nèi)，被涂材料或用金屬絲懸掛，或放在平面上，或沉沒(méi)在粉末的流化床中，或本身就是流化床中的顆粒。在氣相化學(xué)反應(yīng)器中發(fā)生，產(chǎn)物就會(huì)沉積到被涂物表面，廢氣被導(dǎo)向堿性吸收或冷阱。

      沉積反應(yīng)可認(rèn)為還原反應(yīng)、熱解反應(yīng)和取代反應(yīng)幾類。CVD氣相沉積爐反應(yīng)可分為冷壁反應(yīng)與熱壁反應(yīng)。在熱壁反應(yīng)中，化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生與被涂物同處一室。被涂物表面和反應(yīng)室的內(nèi)壁都涂上一層薄膜。在熱壁反應(yīng)器中只加熱被涂物，反應(yīng)物另行導(dǎo)入。